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崗位職責(zé)：

1. 分析目標(biāo)光刻系統(tǒng)及工藝過(guò)程，建立或優(yōu)化各個(gè)過(guò)程模型。

2. 設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)，完成模型參數(shù)提取。

3. 根據(jù)目標(biāo)需求，執(zhí)行光刻工藝全流程仿真工作，優(yōu)化光刻工藝參數(shù)。

4. 建立自動(dòng)化仿真及數(shù)據(jù)處理流程平臺(tái)，并負(fù)責(zé)維護(hù)和持續(xù)建設(shè)。

5. 與相關(guān)人員緊密協(xié)作，完成光刻系統(tǒng)關(guān)聯(lián)參數(shù)評(píng)估，給出產(chǎn)品設(shè)計(jì)優(yōu)化方向等結(jié)論。

崗位要求：

1. 物理、光學(xué)、微電子等相關(guān)專業(yè)

2. 熟悉微納加工工藝和表征方法，具備較扎實(shí)的物理光學(xué)和幾何光學(xué)基礎(chǔ)，最好對(duì)傅里葉光學(xué)和成像理論有一定程度的理解。

3. 了解光刻膠性能參數(shù)及模型，可以動(dòng)手實(shí)驗(yàn)提取模型參數(shù)。

4. 思路嚴(yán)謹(jǐn)、邏輯清晰，具備實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)和數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)處理能力。

5. 責(zé)任心強(qiáng)，工作積極、細(xì)致、嚴(yán)謹(jǐn)，具有良好的學(xué)習(xí)、溝通和抗壓能力。